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  • 涂胶显影机 FPSUS-LABSPIN

    品牌:进口 价格:0.00
    涂胶显影机是手动型匀胶显影机,适合6''和8''的实验室涂胶和显影应用。涂胶显影机适合不同类型的光刻化学试剂,通过xianjin的腔体设计,提供均匀、精确和重复性高的涂胶结果。
  • 晶圆显影清洗机 FPSUS-SD12

    品牌:进口 价格:0.00
    晶圆显影清洗机SD12具有晶圆显影机和晶圆清洗机的双重功能,该晶圆显影清洗机可满足12英寸(300mm)圆片、9英寸×9英寸(230毫米×230毫米)方形基片和掩模的工艺需求,包括NMP剥离、显影(包括丙酮及其它溶液)、光刻胶去除和和清洗等应用环境。该晶圆显影清洗机也可以处理易碎的基片(例如磷化铟和砷化镓),并拥有极高的良率。
  • 涂胶显影机 FPSUS-RCD8

    品牌:进口 价格:0.00
    涂胶显影机是集成了手动旋涂机和晶圆显影机功能的设备,能够实现各种衬底材料和形状的光刻胶涂覆和显影,可以处理粘滞度小于1cps到55000cps的光刻胶,适合于日常研发和小规模生产。
  • 进口spin coater FPLAU-H6-23

    品牌:进口 价格:0.00
    这款进口spin coater是高精度匀胶仪,匀胶台,甩胶仪,涂胶仪,旋涂仪,结构紧凑,具有xianjin的功能,可安装到手套箱中使用。适合150mm晶圆和5英寸×5英寸(127mm×127mm)基板使用,zui大转速为12000RPM(基于100mm硅片).
  • 这款全自动匀胶机是进口自动匀胶仪器,采用功能强大的旋涂机系统专为所有应用的研究和可变工艺而设计。其特点是能够全自动旋涂操作。
  • 大型旋涂仪-450mm FPSPS-POLOS450

    品牌:进口 价格:0.00
    大型旋涂仪POLOS450是为光刻胶匀胶甩胶应用设计的高精度旋涂仪器,适用于直径450mm以下的基片使用。
  • 高精度匀胶机Polos300 是300mm单片匀胶机SPIN COATER,专为MEMS、半导体、光伏、微流体等领域的研发和小批量生产而设计,适用于所有典型的旋涂工艺:清洁、冲洗/干燥、涂层、显影和蚀刻。
  • 进口甩胶机-200mm FPSPS-SPIN200i

    品牌:进口 价格:0.00
    进口甩胶机SPIN200i是200mm单片甩胶机SPIN COATER,专为MEMS、半导体、光伏、微流体等领域的研发和小批量生产而设计,适用于所有典型的旋涂工艺:清洁、冲洗/干燥、涂层、显影和蚀刻。
  • 进口小型旋涂机SPIN150i是150mm单片旋涂机,专为MEMS、半导体、光伏、微流体等领域的研发和小批量生产而设计,适用于所有典型的旋涂工艺:清洁、冲洗/干燥、涂层、显影和蚀刻。
  • 进口匀胶机 FPCHE-Spin-Master50

    品牌:进口 价格:0.00
    进口匀胶机Spin Master50是紧凑且易于使用的旋涂机,用于精确且均匀地沉积薄膜和涂层,坚固耐用,无振动干扰的设计使其成为研究设施的通用工具。
  • 可编程匀胶机spin coater是进口高级匀胶机,内置计算机控制,非常适合科研匀胶使用。
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