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晶圆扩片机 FPULT-UH132
品牌:进口 价格:0.00

晶圆扩片机 UH132 Die Matrix Expanders是Ultron Systems电机驱动晶圆die扩膜扩展器,**为晶片扩展和die晶粒展示而设计。
半自动晶片清洗系统 FPULT-UH119
品牌:进口 价格:0.00

半自动晶片清洗系统UH119是Ultron Systems高压晶片清洁机的*新设计。半自动晶片清洗系统UH119的非接触清洗功能主要针对切割后晶圆应用而设计，利用可变循环高压清洗，实现高效、快速和**的晶片清洗。
半自动晶圆清洗机 FPULT-UH117
品牌:进口 价格:0.00

半自动晶圆清洗机UH117型是半自动晶片清洁系统,**为为锯切或划线后的晶片清洁而设计。
晶圆贴膜机 FPULT-UH114
品牌:进口 价格:0.00

晶圆贴膜机是Ultron Systems的晶圆合框机,可对6英寸、8英寸和12英寸晶圆快速贴膜。
掩模检测仪 FPHSQ-BLIS
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掩模检测仪是用于掩模、掩模或晶片宏观检查的明亮光源照射台,在强光条件下看到掩模的整个表面。尺寸为18“x 18”x 18。该装置配备可选的黄色过滤器。
离子风喷枪 FPSPS-3080
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离子风喷枪是**为半导体晶圆去除静电,灰尘,碎屑污染物设计的电离子喷枪。不仅适用于半导体,光学行业,也适用于医疗和电子行业。快速轻松地清除附着在硅片和掩膜等表面的灰尘。
全自动匀胶机-300mm FPSPS-spin4000a
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这款全自动匀胶机是进口自动匀胶仪器,采用功能强大的旋涂机系统专为所有应用的研究和可变工艺而设计。其*点是能够全自动旋涂操作。
大型旋涂仪-450mm FPSPS-POLOS450
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大型旋涂仪POLOS450是为光刻胶匀胶甩胶应用设计的高精度旋涂仪器,适用于直径450mm以下的基片使用。
高精度匀胶机-300mm FPSPS-olos300
品牌:进口 价格:0.00

高精度匀胶机Polos300 是300mm单片匀胶机SPIN COATER,专为MEMS、半导体、光伏、微流体等领域的研发和小批量生产而设计，适用于所有典型的旋涂工艺：清洁、冲洗/干燥、涂层、显影和蚀刻。
进口甩胶机-200mm FPSPS-SPIN200i
品牌:进口 价格:0.00

进口甩胶机SPIN200i是200mm单片甩胶机SPIN COATER,专为MEMS、半导体、光伏、微流体等领域的研发和小批量生产而设计，适用于所有典型的旋涂工艺：清洁、冲洗/干燥、涂层、显影和蚀刻。
进口烤胶机 FPSPS-POLOS-200S
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这款进口烤胶机采用桌面加热板技术,广泛用于晶圆光刻胶真空烘焙和晶圆烘胶。精密数字温度控制器可实现1°C至230°C的温度可调,适用于软烘焙和硬烘焙工艺，以及光刻胶固化、环氧树脂固化或任何其他需要精确温度控制的工作的固化。
进口小型旋涂机-150mm FPSPS-SPIN150i
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进口小型旋涂机SPIN150i是150mm单片旋涂机,专为MEMS、半导体、光伏、微流体等领域的研发和小批量生产而设计，适用于所有典型的旋涂工艺：清洁、冲洗/干燥、涂层、显影和蚀刻。
*立式化学气相沉积（CVD）系统 FPCHE-CVD
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*立式化学气相沉积（CVD）系统是一个易于使用的系统，用于均匀沉积薄膜材料，包括半导体、碳化硅（SiC）、金属基板上的氧化物、碳化物、氮化物等。得到的薄膜表现出you异的均匀性和良hao的阶梯覆盖。化学气相沉积（CVD）系统也可用于合成纳米材料，例如碳纳米管，石墨烯、半导体纳米线。
等离子体增强化学气相沉积系统 FPCHE-PEVCD
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等离子体增强化学气相沉积系统是进口的PEVCD系统,具有竞争力的价格和性能。
进口匀胶机 FPCHE-Spin-Master50
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进口匀胶机Spin Master50是紧凑且易于使用的旋涂机，用于精确且均匀地沉积薄膜和涂层,坚固耐用,无振动干扰的设计使其成为研究设施的通用工具。
可编程匀胶机 FPCHE-Spin-Master100
品牌:进口 价格:0.00

可编程匀胶机spin coater是进口**匀胶机,内置计算机控制,非常适合科研匀胶使用。
射频等离子体发生器 FPTCP-Ag0613
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这款射频等离子体发生器是进口射频等离子体放大器,提供13.56MHz,120W的射频等离子体发射,非常适合工业,科研和医学应用。可提供射频等离子发射功率有300W, 600W,1000W,1200W, 2400W.
高功率等离子体处理机 FPHEN-HPT-500
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高功率等离子体处理机HPT-500是为器件元件等离子体处理设计的进口离子体处理器,高功率等离子体处理机用于等离子体清洁、附着力改善,等离子体表面活化增强表面润湿性,适用于金属、聚合物、复合材料、玻璃和陶瓷。
台式等离子体清洗机 FPHen-hpt-100
品牌: 价格:0.00

台式等离子体清洗机HPT-100是为器件元件等离子体处理设计的离子体表面清洗机器,台式等离子体清洗机用于等离子体清洁、附着力改善,等离子体表面活化增强表面润湿性,适用于金属、聚合物、复合材料、玻璃和陶瓷。
**等离子体表面处理系统 FPPRI-NEBULA
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**等离子体表面处理系统NEBULA是为器件等离子体处理设计的大型等离子体处理机器,离子体表面处理系统NEBULA用于等离子体清洁、附着力改善,等离子体表面活化增强表面润湿性,适用于金属、聚合物、复合材料、玻璃和陶瓷。