磁控溅射离子镀是专业为扫描电镜SEM应用而设计的
真空磁控溅射仪,是理想的
金属镀膜仪器和
喷金仪.磁控溅射离子镀采用
磁控电极制冷溅射镀膜和低压
等离子体放射技术,为均匀溅射提供保障。
磁控溅射离子镀提高了二次电子产生效率，屏蔽了SEM观察过程中样品周边的充电。
磁控溅射离子镀特色
磁控电极：水平装载靶材，超低放电，减少离子伤害和对样品的热损伤
超低真空镀膜：电流不通过样品，样品温度浮动极小
操作简单：开启EVAC按钮，就可自动溅射镀膜
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磁控溅射离子镀规格
真空系统：蒸发速度20l/min
油旋转超真空度：2Pa
镀膜腔真空度：8-10Pa
靶盘与样品距离：25-35mm
镀膜腔尺寸：直径120mm, 深度65mm
靶材电极尺寸：直径55mm
靶材材料：Au-Pd, Au 或Pt -Pd ， Pt
样品台：直径50mm
尺寸：340x200x350mm
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