自动离子研磨抛光仪

自动离子研磨抛光仪TECH-IV8是进口自动离子束抛光仪,用于TEM制样抛光清洗,是非常适合扫描电镜TEM制样抛光和聚焦离子束FIB制样抛光的离子束抛光机和离子束抛光系统,采用**技术的低能离子源和特殊样品架达到任何需求的制样质量。
自动离子研磨抛光仪特点
自动操作
zui后一步，完美结果
保护性转运胶囊
具有日立电镜专用适配器
在线监控和支持
自动操作
自动离子束抛光仪高级软件提供完整的计算机控制和详细的图形界面。 所有研磨抛光参数可以以任意数量的步进存储或预编程。 TEM离子束抛光仪全自动化功能允许以zui少的用户干预生产高质量的样品。自动穿孔检测有助于保护样品免受过度研磨，使制剂安全，方便。
“zui后一步”
自动离子束抛光仪**离子源的you异性能提供了有效但非常温和的清洁能力，以提高已制备的TEM或FIB样品的质量。
该自动离子束抛光仪建议针对用户寻求zui佳效果或有特殊需求的用户。
保护转移胶囊
自动离子研磨抛光仪的zui新功能可以在真空或惰性气体环境下转移极敏感的样品。 转移胶囊提供有效的保护，防止氧气，蒸汽或其他组分在携带时可能破坏或污染样品表面。
扫描电镜专用3D适配器
自动离子研磨抛光仪配备有特殊适配器，为您提供快速，简单，安全的解决方案，将任何样品转移到日立TEM。 在TEM离子研磨抛光仪和显微镜之间转移时，不需要浪费时间和风险，因此可以使用相同的3D样品架。
在线监控和支持
自动离子研磨抛光仪提供了在线技术支持的软件扩展，可通过互联网实现即时错误检测和程序消除。
 
 
自动离子研磨抛光仪描述
用于制备zui高质量TEM / FIB样品的离子束工作站
快速，可靠的TEM和FIB样品的清洗和后处理方法
与用户无关的自动化操作，具有预编程的配方
适用于工业环境
直接应用日立FIB-STEM / TEM系统的3D样品架的特殊模型
T自动离子研磨抛光仪设计用于zui终抛光，易于清洁和改进以前在标准高能离子磨或FIB柱中处理的样品。推荐给想要准备的用户温和磨坊型号
无人工制品
几乎无损
zui佳质量的XTEM，HRTEM或STEM样品。
这些自动离子研磨抛光仪也适用于快速稀释凹凸或薄（<25μm）的平面机械抛光样品。
zuixianjin的低能源离子源
自动离子研磨抛光仪离子束工作站采用杰出的**热阴极低能量离子源。离子束的极低能量保证zui小化表面损伤和离子束诱导的非晶化。离子源的特殊构造允许高离子束电流密度。包括加速电压和阴极电流在内的所有离子枪参数都由数字反馈回路自动控制，但在样品制备过程中可以随时手动*换。离子源参数的初始值自动或手动设置，并连续显示在计算机屏幕上。
无菌样品制备
自动离子研磨抛光仪在低能量离子轰击下生产无损伤样品的专有能力为在技术科学和材料研究领域的合成和天然材料研究真正的纳米结构提供了独特的机会。
自动操作
第三代TEM离子研磨抛光仪使用易于使用的图形界面提供全面的计算机控制。所有削磨参数，包括离子源设置，气体流量控制，其他削磨参数的设置，如样品运动和倾斜角度，穿孔检测可以以任意数量的步骤存储或预编程。这种完全自动化功能允许以zui少的用户干预产生高质量的样品。 温和磨机3提供了用于在线支持的软件扩展，可通过Internet实现即时错误检测和消除问题。
转移梭子
将样品从自动离子研磨抛光仪转移到手套箱的完整解决方案。该转运胶囊可在真空下或通过使用保护性氩气工作。
 
自动离子研磨抛光仪规格
低能源（一种固定型）
离子能量：100 - 2000 eV，可连续调节
离子电流密度：zui大10 mA / cm2
光束电流：7 - 80 mA，可连续调节
光束直径：750 - 1200μm（FWHM）
手动（模式IV5）或电子you化的工作气体流量（模块IV8）
在2000 eV离子能量和30°角光束入射下，c-Si上的28μm/ h研磨速率
样本阶段
铣削角度：0° - 40°，以0.1°增量电子调节
计算机控制的平面内样品旋转和振荡（从+ 10°到+ 60°，以10°步进电子调节）
可接受的TEM样品的厚度范围（30 - 200μm）
样本处理
真空加载锁定系统，用于快速的样品交换
全机械，无胶水样品装载系统
特殊设计的钛框架和XTEM样品的封装技术
真空系统
Pfeiffer真空系统带无油隔膜和涡轮分子泵，配有紧凑型全范围Pirani / Penning真空计
气体供应系统
99.999％纯度的氩气为1.3 - 1.7 bar绝对压力
专用压力调节器，用于带电子出口压力监测的惰性气体服务
通过电动针阀进行高精度工作气体流量控制。 IV8
成像系统
CMOS相机图像，用于完全视觉控制和铣削监控/终止
高分辨率彩色CMOS相机
手动变焦视频镜头为50 - 400×放大范围
电脑控制
内置工业级PC
易于使用的图形界面和图像分析模块
通过鼠标点击或拖动轻松控制所有重要参数
用于zui小用户干预的高度自动化操作系统（模块IV8）
预编程或手动设置铣削和抛光循环
自动终止：由图像分析模块支持的光学终止铣削过程（检测样品穿孔或监测表面形貌）
电源要求
100 - 120 V / 3.0 A / 60 Hz或220 - 240 V / 1.5 A / 50 Hz - 单相